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Dokumenttyp:
Patent
Patent, Gebrauchsmuster Nr.:
EP 1082749 B1
Erfinder:
Rohwer, E.; Zimmermann, R.; Heger, H.J.; Dorfner, R.; Boesl, U.; Kettrup, A.
Patentanmelder:
GSF Forschungszentrum Umwelt
Titel:
Gaseinlass für eine Ionenquelle
IPC Hauptklasse:
H01J 49/04
Priorität:
DE 19822674 (Anmeldung) 19980520 (Anmeldedatum)
Anmeldeland:
EP
Veröffentlichungsdatum / Patent:
10.04.2002
Jahr:
2002
Hinweise:
Erstanmeldung unter DE 19822674 A1
TUM Einrichtung:
Arbeitsgruppe Physikalische Chemie
Format:
Text
 BibTeX