Electrical passivation and chemical functionalization of SiC surfaces by chlorine termination

Autor(en):: Schoell, S. J.; Howgate, J.; Hoeb, M.; Auernhammer, M.; Garrido, J. A.; Stutzmann, M.; Brandt, M. S.; Sharp, I. D.
Titel:: Electrical passivation and chemical functionalization of SiC surfaces by chlorine termination
Zeitschriftentitel:: Appl. Phys. Lett.
Jahr:: 2011
Band / Volume:: 98
Heft / Issue:: 18
Seitenangaben Beitrag:: 182106
Volltext / DOI:: doi:10.1063/1.3587767
Verlag / Institution:: AIP Publishing
E-ISSN:: 0003-6951
Publikationsdatum:: 01.01.2011
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